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  • 二氧化硅靶材

二氧化硅靶材

  • 用于光学镀膜，真空镀膜，溅射靶材，磁性薄膜，电子材料，合金材料等
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产品名称

二氧化硅靶材

纯度

99.99%

规格

Φ255.6×12.7mm或根据要求定制

密度

2.4g/cm3

熔点

1670℃





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