欢迎来到 纽先科技

光学材料   >  溅射靶材

  • 铜靶

铜靶

  • 适用于直流二溅射、三溅射、四溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等，相对其它靶材，铜靶材的价格较低，所以铜靶材是在能满足膜层的功能前提下的靶材料。
  • 在线咨询

产品名称

铜靶

颜色

紫红色

纯度

3N,4N,5N,6N

规格

Φ100*40mm x 3m 或定制

密度

8.92g/cm3

熔点

1083℃

蒸发温度

1017℃











←[上一个：氧化锌铝靶] [下一个：铬铝靶]→

公司动态

联系我们

电话：+86-0133-8896-1477

E-mail: [email protected]

contact us

close
skype
email
close
Scan Our Wechatclose
Scan Our Wechat